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- 产品名称：化学气相沉积炉
- 产品型号：PECVD1200
- 产品展商：燕园科技
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简单介绍
PECVD1200等离子气相沉积炉是我公司在消化吸收国外同类产品的基础上，与北京大学东莞光电研究院共同研制开发的。广泛应用于薄膜生长等工艺。本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做等离子体增强CVD实验用的理想产品。
产品描述
技术特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。