化学气相沉积炉

PEcvd1200等离子气相沉积炉是我公司在消化吸收国外同类产品的基础上，与北京大学东莞光电研究院共同研制开发的。广泛应用于薄膜生长等工艺。本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做等离子体增强CVD实验用的理想产品。